【摘 要】
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通过改变磁控溅射过程中氩气与氮气(Ar/N2)的分压比,制备了多种不同厚度的Si90Al10Nx薄膜样品,并采用透射率轮廓法对样品在热处理前后的光学性能(包括折射率和消光系数)进行
【机 构】
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浙江中力节能玻璃制造有限公司,中国计量学院物理系,
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通过改变磁控溅射过程中氩气与氮气(Ar/N2)的分压比,制备了多种不同厚度的Si90Al10Nx薄膜样品,并采用透射率轮廓法对样品在热处理前后的光学性能(包括折射率和消光系数)进行了测量和分析。结果表明,样品的光学性能可通过调整Ar/N2的流量比、薄膜厚度、退火条件等工艺参数加以控制。
A series of Si90Al10Nx thin films with different thickness were prepared by changing the partial pressure ratio of argon to nitrogen (Ar / N2) during the magnetron sputtering. The optical properties (including refractive index Rate and extinction coefficient) were measured and analyzed. The results show that the optical properties of the samples can be controlled by adjusting the Ar / N2 flow ratio, the film thickness, annealing conditions and other process parameters.
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