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分析了质子照相过程中发射度的增长过程。开展了照相系统设计，针对设计的照相系统，采用理论分忻和蒙特卡岁计算的方法．具体分析了得个发射度增长因素的影响程度。分析结果表明：对于高能质子照相，加速器的引出发射度对系统的色差模糊的影响可以忽略，但对于中能质子照相，加速器的引出发射度不可忽略。可通过提高加速器引出系统的聚焦能力和减小散束器的厚度来减小发射度影响。