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采用火焰水解法在Si 基上淀积SiO2 / GeO2：SiO2 预制材料，然后在真空中/空气气氛中高温处理（1380 ℃）后，制得玻璃化的SiO2 / GeO2：SiO2 膜材料。该材料膜厚适中（10～30 μm）、平整度好、光滑透明和适合制作单模、多模列阵平面波导光栅。利用XRD，SEM和台阶仪等仪器对SiO2 膜进行了测试分析。