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文章综述了国内外关于硅片清洗技术的研究进展，包括清洗技术的种类、清洗原理、清洗的特点以及清洗的效果。重点介绍了硅片清洗技术中的湿法清洗和干法清洗，并分析了各种清洗工艺的优缺点，讨论了硅片清洗工艺中存在的问题，并提出了进一步发展的方向。
硅片清洗技术的研究进展
【摘 要】
：
文章综述了国内外关于硅片清洗技术的研究进展，包括清洗技术的种类、清洗原理、清洗的特点以及清洗的效果。重点介绍了硅片清洗技术中的湿法清洗和干法清洗，并分析了各种清洗工
【机 构】
：
辽宁工程技术大学研究生院材料工程系
【出 处】
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科技创新与应用
【发表日期】
：
2017年14期
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