电子辐照高阻NTD FZ Si中缺陷态的退火特性

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wxj1208
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报导了电子辐照高阻NTD-FZ-Si中缺陷态的退火特性。分别采用真空和N2气保护下进行等时、等温退火,测量了它们的DLTS谱和相应的少数载流子寿命,对两种退火气氛的实验结果进行了分析讨论。
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