【摘 要】
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一种利用电子束作为探针的全自动 VLSI 掩模版检测系统已经研制成功。采用高分辨率的电子探针及其灵便的定位功能可以提高精度和检测速度。该系统每小时可测10000个图形块,重
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一种利用电子束作为探针的全自动 VLSI 掩模版检测系统已经研制成功。采用高分辨率的电子探针及其灵便的定位功能可以提高精度和检测速度。该系统每小时可测10000个图形块,重复精度为0.3μm(3σ标准误差)。该系统也可在偏转视场范围内,测量图形的位置,误差范围同上。就芯片定位测量而言,重复精度为0.2μm(3σ)。(这一数据同 X—Y 移动工作台的精度有关。)此外该系统还能利用附加的电子设备检查出图形的缺陷。
A fully automated VLSI reticle inspection system using electron beam as a probe has been developed. The use of high-resolution electronic probe and its flexible positioning function can improve the accuracy and detection speed. The system can measure 10000 graphics blocks per hour, the repeatability of 0.3μm (3σ standard error). The system can also be in the deflection field of view, measuring the position of the graph, the error range above. For chip positioning measurements, the repeatability is 0.2 μm (3σ). (This data is related to the accuracy of the X-Y moving table.) In addition, the system can detect graphics defects using additional electronics.
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