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为了提高生产效率，必须要增加工艺过程中每一步的产出。如果能一次对几个芯片进行曝光，那么无疑是一个提高生产效率的好办法。这个方法要受光刻设备的光刻场大小的限制。过去，光刻场在每2个技术周期增长一倍以便满足不断增长的芯片尺寸的需要。结果是，步进扫描式光刻场已经达到了很大的面积（26×33=858mm2）。