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期刊论文
集成电路迈向90nm新工艺
集成电路迈向90nm新工艺
来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:QUEEN_ZX
【摘 要】
:
介绍集成电路制造技术90 nm最新工艺的一些动态及采用的新技术,如应变硅、50 nm晶体管栅极长度,并对今后集成电路的发展做了简单展望.
【作 者】
:
朱良辰
胡越黎
冉峰
【机 构】
:
上海大学微电子研发中心
【出 处】
:
微纳电子技术
【发表日期】
:
2003年10期
【关键词】
:
集成电路
90nm工艺
应变硅
铜工艺
晶体管
多层铜线互连工艺
nm
strained silicon
copper technology
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介绍集成电路制造技术90 nm最新工艺的一些动态及采用的新技术,如应变硅、50 nm晶体管栅极长度,并对今后集成电路的发展做了简单展望.
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