电场作用下PVDF薄膜的结构相变与剩余极化特性研究

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【摘要】

：

采用流延工艺制备了半晶态的PVDF薄膜,通过X射线衍射分析(XRD)对不同电场强度下电极化的薄膜进行了表征.电极化的相变过程为α相→δ相→β相.薄膜的铁电性能分析表明,薄膜的

【作者】

：

叶芸蒋亚东吴志明曾红娟

【机构】

：

电子科技大学

【出处】

：

功能材料

【发表日期】

：

2005年12期

【关键词】

：

PVDF薄膜电场相变 PVDF thin film electric field phase transition

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采用流延工艺制备了半晶态的PVDF薄膜,通过X射线衍射分析(XRD)对不同电场强度下电极化的薄膜进行了表征.电极化的相变过程为α相→δ相→β相.薄膜的铁电性能分析表明,薄膜的剩余极化值Pr随电场强度变化的趋势符合Boltzmann分布函数,拟合的Boltzmann方程表明:引起Pr变化最大的极化电场强度范围是105～125MV/m,最大的剩余极化值Pr达到6μC/cm2.

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