【摘 要】
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现在,光刻技术已广泛应用于集成电路的制备工艺中。常规的投影装置使用波长为350～450nm的光源,由于衍射的限制,其分辨率只能达到大约2μm。可是,集成电路向着复杂化和小型化
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现在,光刻技术已广泛应用于集成电路的制备工艺中。常规的投影装置使用波长为350～450nm的光源,由于衍射的限制,其分辨率只能达到大约2μm。可是,集成电路向着复杂化和小型化方向发展,要求使用更小的器件。实现该目标的一个引入注目的方
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