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根据多晶硅PECVD的制程原理,分别验证温度、流量、功率等工艺参数对镀膜质量的影响,寻求最佳参数,从而达到优化工艺,改善镀膜颜色质量,保证颜色均匀性的目的。
PECVD颜色均匀性的研究
【摘 要】
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根据多晶硅PECVD的制程原理,分别验证温度、流量、功率等工艺参数对镀膜质量的影响,寻求最佳参数,从而达到优化工艺,改善镀膜颜色质量,保证颜色均匀性的目的。
【机 构】
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山西潞安太阳能科技有限责任公司
【出 处】
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通信电源技术
【发表日期】
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2015年3期
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