Molecular Dynamics of Nanometric Processing of Ion Implanted Monocrystalline Silicon Surfaces

来源 :天津大学学报:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kjtx123
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三维的分子的动力学模拟被执行学习离子处理植入的 monocrystalline 硅表面的 nanometric 的机制。格子转变用光线的分发功能和几何标准损坏察觉在培植和 nano 缩进期间被观察。Nano 缩进被模仿学习机械性质的变化。培植分析显示出非结晶的阶段的存在。格子进化,它为减少有益在处理期间折断的缩进过程表演。缩进结果揭示易碎物的减小和植入的表面的坚硬。离子 fluence 在到材料的坚硬的损坏,和逆的直接比例。离子培植, nanoindentation,切的抓 nano 和 nanometr
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