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继东芝和NEC从2006年2月共同开发45nm工艺技术后，两公司又于2007年11月底达成协议，合作开发下一代32nm工艺。开发工作将仍在东芝公司设在横滨的先进微电子中心进行。这次开发工作仅就32nm基础技术达成了协议，其他技术将另作协议。
东芝和NEC合作开发32nm工艺
【摘 要】
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继东芝和NEC从2006年2月共同开发45nm工艺技术后，两公司又于2007年11月底达成协议，合作开发下一代32nm工艺。开发工作将仍在东芝公司设在横滨的先进微电子中心进行。这次开发工
【出 处】
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电子设计应用
【发表日期】
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2008年2期
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