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为满足电子器件制造的需要，研制了1种电阻率≥1．5μΩ·m，厚0．01mm，厚度公差±001mm的NiMoCrAlSiTi镍基高电阻箔材。合金成分设计采用多元少量原则。在提高电阻率的同时保持良好的加丁塑性；在中间热处理、箔材轧制等环节采取有效措施保证了尺寸公差；用扫描电镜（SEM）和透射电镜（TEM）对不同处理状态合金的显微组织、拉伸断口和析出相进行了观察分析，测试了不同状态合金的力学和电学性能，根据其结果决定采用冷轧＋时效的最终热处理工艺，此工艺条件下合金析出弥散分布的二相粒子，对提