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掺铒Al2O3薄膜的性能与制备
掺铒Al2O3薄膜的性能与制备
来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chuanguowuhen
【摘 要】
:
简述了几种Al2O3薄膜的制备方法,使用中频孪生靶非平衡磁控溅射系统制备了掺铒Al2O3薄膜,并对其进行检测,结果表明该方法制备的薄膜适于制作光纤放大器.
【作 者】
:
黄开玉
李国卿
柳翠
高景生
宋琦
王丽阁
【机 构】
:
大连理工大学,大连理工大学
【出 处】
:
真空电子技术
【发表日期】
:
2004年6期
【关键词】
:
掺铒
AL2O3薄膜
光致发光
中频
磁控溅射
Er-doped Al_2O_3 films PL Mid-frequency Magnetic spatter
【基金项目】
:
国家高技术研究发展计划(863计划)
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简述了几种Al2O3薄膜的制备方法,使用中频孪生靶非平衡磁控溅射系统制备了掺铒Al2O3薄膜,并对其进行检测,结果表明该方法制备的薄膜适于制作光纤放大器.
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