离子束能量和衬底温度对氧化钆结构的影响

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：kkkwwwbushiwo

【摘要】

：

利用双离子束沉积技术,在Si(100)衬底上制备了氧化钆薄膜.离子束能量在100～500eV范围内,衬底温度较低时薄膜为(402)择优取向的单斜结构,随着衬底温度的增加,择优取向转为(202)

【作者】

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周剑平柴春林杨少延刘志凯宋书林李艳丽陈诺夫林元

【机构】

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清华大学材料科学与工程系,中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

2005年z1期

【关键词】

：

离子束沉积晶体结构 XPS

【基金项目】

：

国家重点基础研究发展规划(批准号:G20000365,G2002CB31905)和国家高技术研究发展计划(批准号:2003AA302120)资助项目

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利用双离子束沉积技术,在Si(100)衬底上制备了氧化钆薄膜.离子束能量在100～500eV范围内,衬底温度较低时薄膜为(402)择优取向的单斜结构,随着衬底温度的增加,择优取向转为(202)方向.当衬底温度是700℃时,出现了立方结构,这是由于离子束加热的作用,导致低温下出现单斜结构.XPS研究表明薄膜中存在氧缺陷,改进工艺条件可消除部分缺陷.

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