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本文介绍０．３５μｍ（亚半微米）投影光刻机的机器，硅片，掩模，硅片对准，掩模对淮等的坐标系，并根据各坐标系讨论套刻时硅片工件台的步进模型。
投影光刻机的坐标系与套刻步进模型
【摘 要】
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本文介绍０．３５μｍ（亚半微米）投影光刻机的机器，硅片，掩模，硅片对准，掩模对淮等的坐标系，并根据各坐标系讨论套刻时硅片工件台的步进模型。
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1998年3期
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