D_4等离子体聚合物复合膜的制备、形成过程及其氧氮分离性

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将高分子膜用于气体分离已越来越受到人们的重视.在特定条件下,用等离子体聚合可形成高分子超薄膜,它有高度交联结构,表面平整、致密、无针孔.因此,将它用于气体分离是有希望的.本工作用八甲基环四硅氧烷(简称D_4)作单体,进行等离子体聚合,沉积在聚丙烯多孔底膜上,得到D_4等离子体聚合物复合膜.研究表明,该膜有较好的气体透过性能,其氧气透过速率Jo_2为0.5—2×10~(-5)cm~3(STP)/cm~2·sec·cmHg,氧氮分离系数。αo/N为3.3—3.8,远远高于用经典方法制得的聚有机硅氧烷膜的αo/N2.0. More and more people pay more attention to polymer membrane for gas separation.Under specific conditions, plasma polymerization can be used to form polymer ultra-thin film, which has highly cross-linked structure with smooth surface and no pinhole. , It is used for gas separation is promising.This work octamethylcyclotetrasiloxane (referred to as D_4) as a monomer, plasma polymerization, deposited on the polypropylene porous film to obtain D4 plasma polymerization The results show that the film has good gas permeability and its oxygen transmission rate Jo_2 is 0.5-2 × 10 -5 cm -3 (STP) / cm 2 · sec · cmHg, Oxygen and nitrogen separation factor. αo / N is 3.3-3.8, which is much higher than the αo / N2.0 of the polyorganosiloxane film prepared by the classical method.
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