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采用一般工艺制作的湿敏元件在高湿环境中工作时，感湿膜易变形起皱，与基片脱附，大大限制了该类元件的应用范围。为此，我们改进了元件的制作工艺，通过增涂衬底膜和保护膜，基本上解决了上述问题，并且优化了元件的某些性能，延长了元件的寿命。
耐湿性、抗干扰性高分子电阻型湿敏元件制作工艺研究
【摘 要】
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采用一般工艺制作的湿敏元件在高湿环境中工作时，感湿膜易变形起皱，与基片脱附，大大限制了该类元件的应用范围。为此，我们改进了元件的制作工艺，通过增涂衬底膜和保护膜，基本上解决
【机 构】
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吉林大学电子工程系
【出 处】
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郑州轻工业学院学报(自然科学版)
【发表日期】
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1994年S1期
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