【摘 要】
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采用金属有机物化学气相沉积系统在硅面碳化硅衬底的（0001）面上生长氮化铝缓冲层,并通过改变3层梯度铝镓氮（AlxGa1-xN：x=0.8,0.5,0.2）缓冲层的生长温度和氨气流量,制备出了高质量
【机 构】
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集成光电子国家重点联合实验室吉林大学电子科学与工程学院
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采用金属有机物化学气相沉积系统在硅面碳化硅衬底的（0001）面上生长氮化铝缓冲层,并通过改变3层梯度铝镓氮（AlxGa1-xN：x=0.8,0.5,0.2）缓冲层的生长温度和氨气流量,制备出了高质量的氮化镓外延层。分别采用X射线衍射、原子力显微镜、光致发光谱和拉曼光谱对氮化镓外延层进行表征。实验结果表明,随着氮化镓外延层中张应力的降低,样品的晶体质量、表面形貌和光学质量都有显著提高。在最优的梯度铝镓氮缓冲层的生长条件下,氮化镓外延层中的应力值最小,氮化镓（0002）和（1012）面的摇摆曲线半峰宽分别为1
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