LDD MOSFET工艺研究

来源 :微处理机 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xiaochushang

【摘要】

：

<正> 一、引言为了提高 MOS 集成电路的工作速度和集成密度,以往多采用等比例缩小方法。然而当 MOS 器件的尺寸缩小到一定程度后,会出现一系列问题,如阈值电压降低、漏源穿通

【作者】

：

师延进赵军

【机构】

：

机械电子工业部东北微电子研究所,机械电子工业部东北微电子研究所

【出处】

：

微处理机

【发表日期】

：

1991年2期

【关键词】

：

MOSFET 击穿电压热电子效应碰撞电离实验曲线 LDD MOSFET 沟道长度

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<正> 一、引言为了提高 MOS 集成电路的工作速度和集成密度,以往多采用等比例缩小方法。然而当 MOS 器件的尺寸缩小到一定程度后,会出现一系列问题,如阈值电压降低、漏源穿通电压下降,热电子效应引起的阈值电压不稳定,二次碰撞电离产生的衬底电流等。降低氧化层厚度和减小结深,虽然可以使阈值电压和源漏穿通电压降低问题得到改善,但它

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