【摘 要】
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日本三菱电机公司在高知工厂内新建30 0ｍｍ晶片 ,适用于 0 15 - 0 .13μｍ规格的半导体制作生产线 ,约投资 2 0 0 0亿日元 ,计划从 2 0 0 3年开始批量生产闪速ＥＥＰＲＯＭ和ＤＲＡＭ和数字家电的系
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日本三菱电机公司在高知工厂内新建30 0ｍｍ晶片 ,适用于 0 15 - 0 .13μｍ规格的半导体制作生产线 ,约投资 2 0 0 0亿日元 ,计划从 2 0 0 3年开始批量生产闪速ＥＥＰＲＯＭ和ＤＲＡＭ和数字家电的系统ＬＳＩ等。生产规模 (30 0ｍｍ晶片 )月产为 2 5 - 3万枚。 2 0 0 1年
Japan’s Mitsubishi Electric Corporation in Kochi factory built 30 0mm chip, suitable for 0 15 - 0. 13μm specifications of the semiconductor production line, an investment of about 200 billion yen, starting from 2003 volume production Flash EEPROM and DRAM and digital home appliances such as system LSI. Production scale ( 300 mm wafers) is 25 - 30,000 pieces per month. 2001
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