近十年来,光电子显微技术取得了长足进步并已商业化.光电子显微是一种高衬度的成像技术,对材料表面电子结构高度敏感.本文介绍光电子显微镜的成像原理,并着重分析其衬度机制.简要总结光电子显微术在表面结构分析,表面化学,磁学,以及半导体器件表征等方面的应用.目前光电子显微术的两个重要发展方向是利用同步辐射光源和脉冲激光光源做激发源;利用脉冲激光的多光子激发光电子显微术可以对较高功函数(大于光子能量)的材料成像;而脉冲时间分辨光电子显微术可用来研究表面瞬态电子的弛豫动力学机制.文章介绍了在实现飞秒时间分辨以及多光子激发的光电子显微方面的进展.我们利用多光子光电显微术对溅射制备的纳米结构银薄膜表面进行成像,结果表明多光子成像照片上存在一些高强度的亮点,而在单光子成像照片未观察到类似现象.推测这些亮点源于纳米结构银表面的等离子激元的高局域选择性激发.文章还介绍了利用光电子显微术原位观察CuZnAl形状记忆合金的热诱导相变.