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期刊论文
集成电路工艺设计中的试验设计
集成电路工艺设计中的试验设计
来源 :电子器件 | 被引量 : 0次 | 上传用户:quguangming
【摘 要】
:
本文用自适应子空间剖分方法进行工艺参数超空间定义域的分割,并利用试验设计方法建立集成电路器件特性与工艺参数的二次回归模型。实例表明,在工艺优化设计和器件性能预测中
【作 者】
:
何野
常玉林
【机 构】
:
东南大学微电子中心,东南大学微电子中心
【出 处】
:
电子器件
【发表日期】
:
1991年5期
【关键词】
:
集成电路
工艺设计
试验设计
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本文用自适应子空间剖分方法进行工艺参数超空间定义域的分割,并利用试验设计方法建立集成电路器件特性与工艺参数的二次回归模型。实例表明,在工艺优化设计和器件性能预测中用回归模型代替工艺-器件模拟具有较大的优越性。
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