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本文采用独特的电子束蒸镀方法,在光学镀膜机上,以ZnO+3%Al2O3和ZnO为膜料,k9光学玻璃为衬底,制备出ZnO膜.膜层为多晶膜,可见光透过率为T=70-90%,电阻率ρ=1×10-5Ω@m,方电阻为R口=150±50Ω/口,膜机械强度超过国标单层标准,找到实用最佳工艺条件.
透明导电半导体ZnO膜的研究
【摘 要】
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本文采用独特的电子束蒸镀方法,在光学镀膜机上,以ZnO+3%Al2O3和ZnO为膜料,k9光学玻璃为衬底,制备出ZnO膜.膜层为多晶膜,可见光透过率为T=70-90%,电阻率ρ=1×10-5Ω@m,
【机 构】
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电子科技大学信息材料工程学院,西安应用光学研究所
【出 处】
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应用光学
【发表日期】
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2002年2期
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