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通过改善抛光布与硅片问的压强分布的均匀性，可以获得硅片表面最佳平坦化效果。抛光背垫直接接触硅片背面，对硅片与抛光布间的压强分布存在影响。通过3种抛光背垫的抛光实验对比．验证抛光背垫对硅片平坦化的影响，并寻找出较好的抛光背垫。
抛光背垫对比分析
【摘 要】
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通过改善抛光布与硅片问的压强分布的均匀性，可以获得硅片表面最佳平坦化效果。抛光背垫直接接触硅片背面，对硅片与抛光布间的压强分布存在影响。通过3种抛光背垫的抛光实验对
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
【出 处】
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天津科技
【发表日期】
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2013年4期
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