可用于光存储的氧化物、次氧化物薄膜材料的研究及发展

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介绍了可用于可录、可擦除、全息光存储及超分辨掩膜层的氧化物、次氧化物薄膜材料的种类、制备方法、光存储特性和存储机制。这类薄膜材料由于具有种类多、应用范围广、制备方法多样、写入灵敏度高和记录稳定性好等优点 ,正受到各国研究者越来越多的关注。分析总结了这类材料的研究现状、存在的主要问题和未来发展方向 The types, preparation methods, optical storage characteristics and storage mechanisms of oxide and oxide film materials that can be used for recordable, erasable, holographic optical storage and super-resolution mask layers are introduced. Such thin film materials are receiving more and more attentions from researchers all over the world due to their advantages such as wide variety of applications, wide range of applications, diverse preparation methods, high write sensitivity and good record stability. Analyzed and summarized the research status quo of these materials, the main problems and the future development direction
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