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通过改变Cr靶电流强度，在国产AIP—01型多弧离子镀膜机上制备不同Cr含量的（Ti，Cr）N复合薄膜。研究Cr的添加对薄膜硬度、薄膜相结构及晶格常数等性能的影响，探讨薄膜的硬化机理。结果表明：Cr的加入可显著提高复合薄膜的硬度，显微硬度可高达HV2665；复合薄膜是以TiN为基的（Ti，Cr）N薄膜，薄膜中没有独立的CrN和CrzN相，同时由于Cr的加入，薄膜的择优取向从（111）晶面逐渐过渡到（200）晶面，随Cr靶电流的增大，所得（Ti，Cr）N复合膜中出现单质Cr。