【摘 要】
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采用阴极弧离子镀法在GH4169 Ni基合金表面制备TiAlSiN涂层,通过SEM,EDS,XRD和XPS等手段对TiAlSiN涂层表面界面形貌、能谱以及物相结合能谱进行测试分析,并对其结合界面化学
【机 构】
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常州大学机械工程学院,常州大学石油化工学院
【基金项目】
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江苏省科技支撑计划(工业)项目(BE2012066)
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采用阴极弧离子镀法在GH4169 Ni基合金表面制备TiAlSiN涂层,通过SEM,EDS,XRD和XPS等手段对TiAlSiN涂层表面界面形貌、能谱以及物相结合能谱进行测试分析,并对其结合界面化学元素进行线扫描分析,讨论涂层界面结合机理。研究结果表明:TiAlSiN涂层主要成分为Al,Ti,Si和N元素,化学元素分布均匀,表面没有产生富集现象;涂层具有较强的TiSix和SiNx择优取向化合物,为非晶结构;TiAlSiN涂层是由TiN,AlN和Si3N4等物相组成,Si元素以Si3N4非晶相形式包覆在(A
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