ICP设备的使用与维护

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介绍了电感耦合等离子(ICP)刻蚀系统的刻蚀原理,分析了电感耦合等离子刻蚀系统在刻蚀晶圆的过程中遇到的刻蚀速率和刻蚀均匀性等方面的问题,具体分析了刻蚀速率和刻蚀均匀性的影响因素。同时,描述了设备在使用过程中经常遇到的一些故障现象,对这些故障现象发生的原因进行了详细地分析,根据分析的结果给出了故障的具体解决办法。最后,对电感耦合等离子刻蚀系统在日常使用过程中的保养和维护提出了一些建议,注重日常的保养和维护可大大降低设备的故障率。
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