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SiNx／SiO2叠层膜作为减反射钝化膜在高效太阳电池中具有广泛的应用。本文采用光学导纳特征矩阵法，利用Matlab软件对SiNx/SiO2叠层膜的减反射效果进行系统理论研究。首次将AM1．5G光谱、透过叠层膜到达硅片表面光子数作为衡量标准，进行减反射膜的厚度优化研究。结果表明，优化后SiNx/SiO2叠层膜厚度为70nm＋20nm时，透过叠层膜到达硅片表面光子数最多，达到2．618×10^17（1／s·cm2）。