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Pt在Ni（Pt）-Si-O固相反应中的影响

来源 :复旦学报：自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wwucg
【摘 要】
：
深亚微米尺度（90 nm）下,对在金属Ni膜中加入微量Pt,再经过高温退火形成NiSi.对该固相反应的反应序列进行了研究.研究发现Ni2Si-to-NiSi转变温度由300℃提高到350℃;NiSi-to-NiS
【作 者】
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任卫 CHI Dongzhi 
【机 构】
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上海理工大学理学院,InstituteofMaterialsResearchandEngineering
【出 处】
：
复旦学报：自然科学版
【发表日期】
：
2007年3期
【关键词】
：
镍硅化物 固相反应 快速热处理 扩散 二次离子质谱 nickel silicide  solid-state reaction  rapid thermal p 
【基金项目】
：
supported by Scholarship of National University of Singapore
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深亚微米尺度（90 nm）下,对在金属Ni膜中加入微量Pt,再经过高温退火形成NiSi.对该固相反应的反应序列进行了研究.研究发现Ni2Si-to-NiSi转变温度由300℃提高到350℃;NiSi-to-NiSi2转变温度由640℃提高到775℃;而且,NiSi薄膜的形貌在750℃才开始发生Agglomeration现象.
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