【摘 要】
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日本SELETE和东京工业大学发现了为制作16Gbit DRAM所需要的F_2准分子激光蚀刻的新光掩模材料,加入氟,不含氢氧根的无水石英玻璃作为光纤材料,目前一般使用的含水石英,如用F
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日本SELETE和东京工业大学发现了为制作16Gbit DRAM所需要的F_2准分子激光蚀刻的新光掩模材料,加入氟,不含氢氧根的无水石英玻璃作为光纤材料,目前一般使用的含水石英,如用F_2激光器,则初期透过率不过10％～20％,而且由照射产生缺陷。不含氟氢氧根的掺氟石英玻璃,初期透过
Japan SELETE and Tokyo Institute of Technology found a new photomask material for F_2 excimer laser etching required for making 16 Gbit DRAM, adding fluorine and anhydrous hydroxide glass containing anhydrous hydroxide as an optical fiber material, currently used water-containing quartz, Such as F_2 laser, the initial transmission rate of 10% to 20%, but also by the irradiation defects. Fluorine-free quartz fluorine-doped quartz glass, the initial transmission
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