Ni1-xMn xO 稀磁半导体的磁性研究

来源 :中国科学技术大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：SANDWICHSZHANG

【摘要】

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通过X射线吸收近边结构（XANES ）、超导量子干涉仪和第一性原理计算研究了脉冲激光沉积法（PLD）制备的Ni1- x Mnx O （0.01≤x≤0.05）薄膜的微观结构和磁学性质．X射线吸收近边结构表明，

【作者】

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王超洪德雄杨晓喻方明亮蔡亮陈琳闫文盛

【机构】

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中国科学技术大学国家同步辐射实验室

【出处】

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中国科学技术大学学报

【发表日期】

：

2014年8期

【关键词】

：

MN掺杂 NiO XAFS 室温铁磁性 Mn-doped NiOXA FSMn-doped NiOXAFSroom temperature ferromagne

【基金项目】

：

国家自然科学基金（U1332131）资助.

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通过X射线吸收近边结构（XANES ）、超导量子干涉仪和第一性原理计算研究了脉冲激光沉积法（PLD）制备的Ni1- x Mnx O （0.01≤x≤0.05）薄膜的微观结构和磁学性质．X射线吸收近边结构表明，当x≤0.03时，掺杂的M n替代了NiO晶格中的Ni原子，并且以混合价态（＋2/＋3）的形式存在．当x＞0.03时，掺杂的部分Mn离子形成了类Mn2 O3杂相．磁性测量表明，随着Mn含量从0.01增加到0.03， Ni1- x Mnx O薄膜的饱和磁矩从0.3μB/Mn增加到了0.45μB/Mn ．

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