【摘 要】
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不锈钢箔片上溅射沉积25nm的钛底膜后,在工作真空0.9Pa,O2、Ar分压比1∶6,基体温度270～280℃的条件下,用直流磁控反应溅射法制备了厚度约300nm的TiO2薄膜, 并在420℃的氧气氛
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不锈钢箔片上溅射沉积25nm的钛底膜后,在工作真空0.9Pa,O2、Ar分压比1∶6,基体温度270～280℃的条件下,用直流磁控反应溅射法制备了厚度约300nm的TiO2薄膜, 并在420℃的氧气氛下进行热处理.XRD分析看出,薄膜为TiO2锐钛矿和金红石复合晶型.测算表明TiO2复合晶中锐钛矿质量含量约64%,其晶粒尺寸约14nm.用'弯曲法'测试表明,膜基结合力强.由对苯酚溶液的降解实验看出,制备光催化薄膜具有较好的光催化活性.
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