1.06μm激光作用下硅解离的光声谱

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1.06μm激光作用下硅解离的光声波被加宽而且存在一个驼峰,随激光能量增强驼峰延迟出现,并且驼峰出现时间可以大于激光脉宽、这一特征主要受解离硅的后续反应和无辐射驰豫过程控制。 The photoacoustic wave of silicon dissociation under 1.06μm laser is broadened and there is a hump. The hump appears with the increase of laser energy, and the appearance time of hump can be larger than that of laser. This feature is mainly affected by the subsequent reaction of solute silicon and No radiation relaxation process control.
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