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阐述了二氧化硅干法蚀刻的原理和主要的蚀刻参数。应用正交实验,进行了蚀刻速率、均匀性、选择比等主要蚀刻参数的优化,得出主要工艺参数的设置方法和理想条件漂移时的调整方法以及优化选择比的蚀刻方案。
二氧化硅干法蚀刻参数的优化研究
【摘 要】
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阐述了二氧化硅干法蚀刻的原理和主要的蚀刻参数。应用正交实验,进行了蚀刻速率、均匀性、选择比等主要蚀刻参数的优化,得出主要工艺参数的设置方法和理想条件漂移时的调整方
【机 构】
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华南理工大学应用物理系,南科集团
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2005年06期
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