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高温电路的潜力及问题
高温电路的潜力及问题
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:nrykapnry
【摘 要】
:
本文着重对各种半导体材料、工艺、器件、数字和模拟电路的高温特性进行比较;概述了过去30年的发展史,说明MOSFET工艺处于重要地位;总结了标准ICCAD程序中高温模型的缺点,提
【作 者】
:
宋湘云
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
1992年5期
【关键词】
:
集成电路
高温性能
工艺
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本文着重对各种半导体材料、工艺、器件、数字和模拟电路的高温特性进行比较;概述了过去30年的发展史,说明MOSFET工艺处于重要地位;总结了标准ICCAD程序中高温模型的缺点,提出了近期和远期对高温电路的需求。
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