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,Influence of ultra-thin TiN thickness (1.4 nm and 2.4 nm) on positive bias temperature instability
【机 构】
:
Key Laboratory of Microelectronics Devices and Integrated Technology,Institute of Microelectronics,C
【出 处】
:
中国物理B(英文版)
【发表日期】
:
2015年12期
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