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本文用3.0ke VAr离子刻蚀聚酰亚胺薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)对薄膜表面元素组成、化学环境进行了分析,考察了不同刻蚀深度的薄膜表面的化学结构变化。
Ar离子刻蚀聚酰亚胺薄膜的XPS研究
【摘 要】
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本文用3.0ke VAr离子刻蚀聚酰亚胺薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)对薄膜表面元素组成、化学环境进行了分析,考察了不同刻蚀深度的薄膜表面的化学结构变化。
【机 构】
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齐齐哈尔大学分析测试中心
【出 处】
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化工时刊
【发表日期】
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2015年01期
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