【摘 要】
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该文对利用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀设备来制作图形化蓝宝石基底(PSS)的工艺控制进行了研究.在工艺制作过程中,选用了C轴(0001)取向的(Φ)100mm蓝宝石平片作为实验样品,通
【机 构】
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中国电子科技集团公司第26研究所,韩国先进微波技术有限公司
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该文对利用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀设备来制作图形化蓝宝石基底(PSS)的工艺控制进行了研究.在工艺制作过程中,选用了C轴(0001)取向的(Φ)100mm蓝宝石平片作为实验样品,通过光刻工艺和ICP刻蚀工艺控制,制作出了具有圆锥状图形结构的图形化蓝宝石基底.借助扫描电子显微镜,对该图形化蓝宝石基底进行了测量和分析.测量结果显示,基底表面上的单粒圆锥状图形结构的底部直径为(Φ)(3.45士0.25)μm,刻蚀高度/深度为(1.75±0.25)μm,整个图形化蓝宝石基底成品片的均匀性控制在3％以内.
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