【摘 要】
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虽然现在推测浸没光刻技术的量产时间还太早,但是许多公司正在努力确定生产线何时能从干法工艺跃为湿法工艺。根据最近在San Jose举办的SPIE Microlithography会议的迹象来看,
【机 构】
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虽然现在推测浸没光刻技术的量产时间还太早,但是许多公司正在努力确定生产线何时能从干法工艺跃为湿法工艺。根据最近在San Jose举办的SPIE Microlithography会议的迹象来看,工程师们正在迅速克服开发和生产之间存在的各种难题。在展览中,TSMC宣布它已采用浸没光刻技术制作了测试晶圆,每个300mm晶圆上无论何处都只有三到七个缺陷.可与干法193nm光刻技术相媲美。TSMC人说他们正用所拥有的缺陷减少专利技术达到此水平。在SPIE专题报告中,IMEC的Kurt Ronse表达了浸没光刻技术不
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