抗蚀剂相关论文
由于三维功能微纳结构可以实现平面微纳结构所无法得到的卓越光学性能,所以吸引了大量研究者对其进行兴趣。目前,基于三维光功能微......
介绍了国内外一些超精密技术应用在微机械加工中的方法。
Introduced a number of domestic and foreign ultra-precision techno......
软Ｘ射线显微术适合于自然状态下生物样品的高分辨率显微成像。软Ｘ射线接触显微术是Ｘ射线显微成像方法中最简单也是迄今唯一达到接近理......
南朝鲜SKC有限公司的光学介质厂位于汉城以南50英里处。该厂于1986年开始制造小型光盘,现正为欧洲和日本的许多公司压制。该厂同......
对于硅片来说,当在其上制作出集成电路芯片以前,一面要在硅片上复盖各种物质,一面将根据需要再度分步清除。作为复盖在硅片上的物......
低压等离子体在半导体器件制造中的应用是一个十分活跃的研究课题.从七十年代初将等离子体技术用于去除光致抗蚀剂以后,不久就相继......
日本、英国和美国公司正竞相发展一种称为同步加速器的强X射线源,此源对集成电路制造商发展下一代计算机芯片必不可少。但康乃尔......
描述了用高功率脉冲激光打靶产生的等离子体作为软Ｘ射线源而进行的接近式软Ｘ射线光刻研究。采用负性辐射线光刻胶聚氯甲基苯乙烯（ＰＣＭＳ），得到......
玻璃艺术蚀刻是现代玻璃装饰过程中的一种重要工艺，是对玻璃表面进行处理的一种技术，玻璃表面经过蚀刻处理之后，既具有实用性又具有观......
本论文主要工作是利用MonteCarlo方法模拟了在电子束光刻中电子穿越掩模的过程和电子在抗蚀剂和衬底中的散射过程。在电子穿越掩模......
4 在化学镀锡上的LDI 这是指经制备的在制板铜箔上涂覆上一层厚度为0.8/μm的锡箔,接着通过UV激光蚀去不需要的锡镀(涂)层及其底......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
本文对化学增幅抗蚀剂体系的组成及化学增幅作用做了说明.介绍了化学增幅作用中的关键组分-光产酸源和酸增殖剂的发展概况.并对重......
讨论了衍射效应在微米 /纳米X射线光刻中对分辨率的影响和抗蚀剂的预烘温度与其衬度的关系。分析发现增加抗蚀剂的衬度能有效地提......
通过凝胶率对曝光能量的变化,研究显影液、光敏剂用量等对超支化聚合物光致抗蚀剂感光性能的影响.结果表明:四甲基氢氧化胺水溶液......
通过1,2,4-偏苯三甲酸酐(TA)和环氧丙烷丁基醚(BGE)合成超支化碱溶性聚酯,利用合成聚合物分子外围的羧基与烯丙基缩水甘油醚(AGE)......
为探究海藻多糖抗蚀剂(SA-01)在控制坡面水土流失中的效果及作用机理,该研究以南方红壤区典型红壤为例,通过人工模拟降雨试验(雨强......
纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一.基于其机械压印原理,纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光......
在电子束液态曝光技术的可行性已被证实的基础上,采用理论和实验相结合的方法,就电子束能量和剂量对固化深度的影响进行了研究,以T......
在研究液体抗蚀剂受力分析的基础上,对液体抗蚀剂的甩胶原理,甩胶后抗蚀剂的液面形状、抗蚀剂涂层厚度与抗蚀剂黏度和马达转速之间......
采用半导体工艺的旋转涂胶法，在矩形铁氧体衬底上旋涂抗蚀剂，研究了其涂覆特性，给出了抗蚀剂的厚度与旋涂转速和旋涂时间的关系曲线及......
从理论上建立了压印光刻工艺中留膜厚度与压印力的关系,为压印预设曲线的建立提供了理论依据.基于液态光敏抗蚀剂在紫外光照射下发......
极紫外光刻(EUVL)技术是实现45 nm特征尺寸的候选技术之一,产业化设备要求300 mm硅片的产率大于每小时80片(80 wafer/h),此时入射......
研究了纳米压印光刻匀胶工艺中抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速、匀胶时间和滴胶量之间的关系。实验研究表明，抗蚀剂膜厚与抗蚀剂......
将高支化碱溶性丙烯酸化聚酯用于光改抗蚀剂,因其独特的三维结构而具有的低粘度,高活性使抗蚀剂膜收缩率小,而具有良好的成像显影......
通过环氧氯丙烷和1,2,4-偏苯三甲酸酐合成高支化碱溶性聚酯,再与甲基丙烯酸缩水甘油酯反应得到高支化碱溶性丙烯酸化聚酯;研究了树......
讨论了造成孔壁空洞的几种原因,主要集中在掩膜与孔壁空洞的联系.另外还讨论了直接电镀技术在解决孔壁空洞上的应用.......
化学放大胶(Chemically Amplified Resists,简称CARs)是下一代光刻技术中极具发展潜力的一种光学记录介质.介绍了化学放大胶在电子......
介绍了IH系列立体光刻技术.使用该系列技术可以加工出具有高深宽比和复杂曲面的各种微结构,可以容易地加工出微可动部件、电子聚合......
施用土壤抗蚀剂是提升土壤流失治理效果的有效途径之一,现有材料生态效益不能满足耕地的使用需求,寻找生态效益优良的新型土壤抗蚀......
试验研究了砂浆中不同氯离子浓度对钢筋锈蚀的影响，以及掺粉煤灰、矿渣、抗蚀剂的砂浆中钢筋抗氯离子侵蚀的能力。结果表明，砂浆中游......
高级半导体封装技术正在不断发展演变,包括增加器件功能和降低每单元功能成本,以便支持全新的器件类型。为满足市场在对准进度、对......
提出了可用于微机电系统加工的细电子束液态曝光技术.对该工艺的曝光方式、真空度需求、抗蚀剂选择以及能量和剂量需求等问题进行......
质子束刻写技术利用MeV能量的聚焦质子束对抗蚀剂材料直接刻写μm甚至nm尺度微结构。研究了质子束刻写中抗蚀剂胶层样品厚度与涂层......
通过对Ma-P100正性厚胶光刻技术的研究，初步解决了厚胶工艺易出现的胶的均匀性问题，厚胶长时间曝光工艺，用普通曝光机获得了厚度为60......
在集成电路的冷压印光刻中,为了获得高分辨率抗蚀剂,着重对溶剂挥发固化型、化学交联固化型和紫外光照交联固化型材料,从复形分辨......
通过试验研究了矿渣、粉煤灰及一种抗蚀剂对水泥浆体结合游离氯离子性能的影响。结果表明，三者皆能提高单位水泥浆体结合氯离子的能......
讨论了采用SAL601负性化学放大电子束抗蚀剂进行电子束曝光应用于纳米级集成电路加工的实验方法与工艺条件.经过大量实验总结,通过......
【正】引言激光立体扫描曝光成像技术是利用短波长激光高强度光点,通用多坐标联动加工中心作为运动执行机构,配合计算机控制系统,......
本文对含重氮萘醌化合物的翻转成像体系作了详细的总结、所述翻转成像体系主要分为三类，其一主要是通过脱羧反应、酯化反应、酰胺化......
研究了不同后烘情况下的PAC浓度分布和抗蚀剂的显影轮廓，结果表明适当的后烘可明显减小驻波缺陷，提高光刻质量，而过量的后烘将会导致......
