Ga 掺杂 ZnO 的电子结构与电性能的研究

来源 :原子与分子物理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qq7758521
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采用密度泛函理论广义梯度近似第一性原理计算的方法研究了n型Ga掺杂的纤锌矿结构氧化物ZnO的晶格结构、能带结构和态密度,在此基础上分析了其电性能.计算结果表明,掺杂ZnO氧化物晶格a, b轴增大,c轴略有减小;Ga掺杂ZnO氧化物两能带之间具有0.6eV的直接带隙,需要载流子(电子)跃迁的能隙宽度较未掺杂的ZnO氧化物减小;掺杂体系费米能级附近的态密度大大提高,其能带主要由Ga s态、Zn s态和O s态电子构成,且他们之间存在着强相互作用,其中Ga s态电子对导带贡献最大.电输运性能分析结果表明,Ga掺杂ZnO氧化物导电机构由Zn p-O p电子在价带与导带的跃迁转变为Ga s-Zn d-O s电子在价带与导带的跃迁,这也表明Ga s态电子在导电过程中的重要作用;掺杂体系费米能级附近的载流子有效质量较未掺杂体系增大,且价带中的载流子有效质量较大,导带中的载流子有效质量较小.
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