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采用常压化学气相沉积法（APCVD），以有机金属化合物-单丁三氯化锡（C4H9SnCl3，MBTC）和三氟乙烯（CF3COOH，TFA）为前驱物和掺杂剂，以水为催化剂，在线制备了F掺杂的SnO2膜；采用XRD、SEM、椭偏仪等方法研究催化剂H2O的用量对薄膜的结构和光电性能的影响。结果表明，H2O可促进反应混合气体在基板表面的热分解反应，加速薄膜沉积速率，提高薄膜结晶性能。