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采用常压化学气相沉积法(APCVD),以有机金属化合物-单丁三氯化锡(C4H9SnCl3,MBTC)和三氟乙烯(CF3COOH,TFA)为前驱物和掺杂剂,以水为催化剂,在......
在500℃石英玻璃管基质上,化学气相沉积法制备Sb搀杂氧化锡SnO2膜,并应用于实验室精馏塔柱.研究了元素搀杂量、镀膜温度和退火处理......