【摘 要】
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据《Solid State Technology》2004年第9/10期报道,日本NTT基础材料科学实验室已成功开发了可供微机电系统(MEMS)结构使用的高速电子束蚀刻技术。其分辨率可远远高于传统的蚀
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据《Solid State Technology》2004年第9/10期报道,日本NTT基础材料科学实验室已成功开发了可供微机电系统(MEMS)结构使用的高速电子束蚀刻技术。其分辨率可远远高于传统的蚀刻技术。研究人员展示了在60μm PMMA光阻上蚀刻出的三维空间系统结构,
According to Solid State Technology, Volume 9/10, 2004, Japan’s NTT Materials Science Laboratory has successfully developed a high-speed electron beam lithography technology for use in microelectromechanical systems (MEMS) structures. Its resolution can be much higher than the traditional etching technology. The researchers demonstrated a three-dimensional spatial system structure etched on a 60μm PMMA resist,
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