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Metal Chemical Vapor Deposition: Design and Synthesis of New Source Reagents for Osmium Thin Films
Metal Chemical Vapor Deposition: Design and Synthesis of New Source Reagents for Osmium Thin Films
来源 :黑龙江科技信息 | 被引量 : 0次 | 上传用户:QQ329431503
【摘 要】
:
本文通过对荣华二采区10
【作 者】
:
YU HuanLi
CHOU TsungYi
CHI Yun
【机 构】
:
Department of Chemistry, National Tsing Hua University,
【出 处】
:
黑龙江科技信息
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
Chemical Vapor Deposition
elevated temperature
surface morphology
stainless stee
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本文通过对荣华二采区10<
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