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由欧盟第七研发框架计划（FP7）提供490万欧元资助，总研发投入690万欧元，欧盟6个成员国9家企业联合科技界组成的欧洲PHOTOSENS研发团队，从2011年2月开始，致力于纳米结构传感器阵列（NSA）的低成本人规模工业化制造的关键技术与生产工艺突破，利用最先进的纳米压印光刻（Nanoimprint Lithography）技术，整合卷到卷（R2R）生产制造工艺，实现了低成本大批量制造生产大面积NSA的工业流程设计和设备样机开发，奠定了NSA进一步商业化推广应用的基础。