【摘 要】
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利用气相沉积TiN、TiC、Al_2O_3或其它沉积层来改善金属材料表面的性质,使其得到超硬膜,这项新技术在国内外受到普遍重视。按照气相沉积的性质,可分为化学气相沉积(CVD)和物
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利用气相沉积TiN、TiC、Al_2O_3或其它沉积层来改善金属材料表面的性质,使其得到超硬膜,这项新技术在国内外受到普遍重视。按照气相沉积的性质,可分为化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。CVD 设备简单,绕镀能力强,但沉积温度高达1000℃以上,使金属零件机械性能大大降低;PVD 沉积温度低(400～600℃),沉积速率高,且无公害,但设备昂贵,技术
The use of vapor deposition of TiN, TiC, Al_2O_3 or other deposited layers to improve the surface properties of metallic materials to obtain superhard films is a new technique that has gained worldwide attention. According to the nature of vapor deposition, chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) can be classified. CVD equipment is simple, the coating ability is strong, but the deposition temperature is up to 1000 ℃, the mechanical properties of the metal parts are greatly reduced; PVD deposition temperature is low (400 ~ 600 ℃), deposition rate is high, and pollution-
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